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2023年武汉市集成电路产业奖励补贴资助标准及项目申报条件资料

2022/11/25

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Ⅰ、武汉市流片补贴(武政规〔202018号文第四条)申报条件、申报资料和资助标准:

()符合本办法第五条规定且符合下列条件的企业可申请流片补贴:

1.企业年度进行全掩膜(Full Mask)或多项目晶圆(MPW)首轮流片的。

2.经过Full Mask流片,达到设计要求后,可以提供给集成电路系统整机厂商进行芯片性能测试及示范应用的芯片产品,产品须获得集成电路布图设计登记证书。

3.“首轮流片是指集成电路设计企业为某款芯片进行的第一次流片。

4.流片费用具体包括:掩膜版制作费、用于首轮流片的晶圆购置费(不高于25片晶圆)、制造端IP授权费、测试加工费等。

()申报流片补贴的企业应提供下列申报资料:

1.企业营业执照复印件。

2.全掩膜(Full Mask)首轮工程产品流片、多项目晶圆 (MPW)流片的情况说明。

3.企业上一年度财务审计报告及相关财务资料(包括:企业Full Mask流片中掩膜版制作费用或首轮流片费用的材料;企业MPW流片中首轮流片费用的材料;集成电路设计企业与集成电路制造企业签订的Full MaskMPW首轮流片合同、发票、转账凭证等相关材料)

4.盖章的申报材料真实性及不重复申请承诺书。5.企业曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。6.市经信局要求的其他材料。

()流片补贴标准:

1.对完成全掩膜(Full Mask)首轮工程产品流片的集成电路设计企业,给予首轮流片费用30%或首轮掩膜版制作费用50%的补贴,单个企业年度补贴总额最高500万元。

2.对使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的集成电路设计企业,给予MPW首轮流片费用50%的补贴,单个企业年度补贴总额最高100万元。

Ⅱ、武汉市设计费用补贴(武政规〔202018号文第五条)申报条件、申报资料和资助标准:

()符合本办法第五条规定且符合下列条件的企业可申请设计费用补贴:

1.企业年度直接购买IPEDA并用于研发。

2.企业年度复用、共享我市第三方集成电路(IC)设计平台的IP设计工具软件或测试分析系统。

3.购买IP不包含委托技术服务。4.“IP”是指供应方提供的已形成知识产权并完成权属登记

的,可直接用于二次开发的商品。“Foundry IP”指由代工厂

提供的用于流片环节的IP模块。

5.“委托技术服务是指,委托方提出技术需求,由供应方研

发,之后就该项技术形成知识产权,权属由双方自行约定的。

()申报设计费用补贴的企业应提供下列申报资料:

1.企业营业执照复印件。

2.企业购置IPEDA的情况介绍;企业开展复用、共享我市第三方IC设计平台的IP设计工具软件或测试分析系统的工作情况介绍。

3.企业上一年度财务审计报告及相关财务资料(包括:企业购置IPEDA的费用明细表、合同、发票、转账凭证等;企业开展复用、共享我市第三方IC设计平台的IP设计工具软件或测试分析系统的费用明细表、合同、发票、转账凭证等)

4.盖章的申报材料真实性及不重复申请承诺书。

5.企业曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。

6.市经信局要求的其他材料。

()设计费用补贴标准:

1.给予购买IPEDA实际支出费用的30%、年度总额最高200万元的补贴。

2.给予复用、共享我市第三方集成电路设计平台的IP设计工具软件或者测试分析系统实际投入的50%、年度总额最高100万元的补贴。

Ⅲ、武汉市集成电路公共服务平台建设资助和运营奖励(武政规〔202018号文第六条)申报条件、申报资料和资助标准:

()符合本办法第四条规定且符合下列条件的企业可申请集成电路公共服务平台建设资助和运营奖励:

1.经市级以上()科技、发改、经信部门认定的,提供EDA工具和IP核、设计解决方案、先进工艺流片、先进封测服务、测试验证设备等用于我市企业芯片研发支撑服务的。

2.正常运营服务,具有明确的发展规划、功能定位和管理机

制,拥有相应的服务设施、专业技术和管理人才队伍;主要面向中小型集成电路设计企业提供服务,具有公共性、开放性和资源共享性。

3.申报企业投入平台建设和运营的自有资金不低于总投资的30%,且有能力为平台的后续建设提供资金;政府补贴资金不得用于流动资金和纳入财政经费保障人员的工资性支出。

()申报集成电路公共服务平台建设资助和运营奖励的企业应提供下列申报资料:

1.企业营业执照复印件。

2.平台基本情况、发展规划、功能定位、运营管理制度等相关文件。

3.平台取得经营资质的文件和证明材料,知识产权证,检测报告,获奖证书,国家、省市有关平台项目批复文件、合作协议,团队人员情况等相关证明材料。

4.平台年度为我市集成电路企业提供公共技术服务的企业名单及相关合同、发票、转账凭证等材料复印件。

5.平台上一年度财务审计报告,企业上一年度财务审计报告。

6.盖章的申报材料真实性及不重复申请承诺书。7.平台曾获得市级以上()相关财政资金支持明细的文件。8.企业曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。9.市经信局要求的其他材料。

()集成电路公共服务平台建设资助和运营奖励标准:

1.对新建的集成电路公共服务平台,一次性给予平台实际建设投入自有资金部分30%的资助,最高资助总额不超过1000万元。

2.对投入运营的集成电路公共服务平台,按年度市内中小企业服务合同实际完成额的30%给予奖励,单个平台每年最高不超过500万元。

Ⅳ、武汉市销售自主研发设计的芯片及相关产品奖励(武政规〔202018号文第七条)申报条件、申报资料和资助标准:

()符合本办法第四条规定且符合下列条件的企业可申请销售自主研发设计的芯片及相关产品奖励:

1.芯片及相关产品指以下四类产品:芯片、集成电路制造或测试设备、集成电路制造材料、EDA软件。

2.企业销售自主研发设计的芯片,且单款芯片年度销售金额累计超过500万元的(依据会计准则核算)

3.企业销售自主研发设计、生产制造的集成电路设备或材

料,且单款产品年度销售金额累计超过300万元的(依据会计准则核算)

4.企业年度销售自主研发设计的EDA软件产品。5.企业销售的芯片及相关产品须拥有自主知识产权(包括专

利权、集成电路布图设计专有权等)6.是否单款芯片、设备、材料、EDA软件,以名称、型号

以及其他相关技术材料判定。

7.单个企业同一类产品销售奖励只支持一次。

()申报销售自主研发设计的芯片及相关产品奖励的企业

应提供下列申报资料:

1.企业营业执照复印件。2.企业上一年度财务审计报告。3.所售芯片、设备、材料、EDA软件的情况介绍。

4.所售芯片、设备、材料、EDA软件专利证书或知识产权相关证明材料。

5.芯片、设备、材料、EDA软件的销售合同、货款到帐凭证和销售发票复印件。

6.盖章的申报材料真实性及不重复申请承诺书。

7.企业曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。

8.市经信局要求的其他材料。

()销售自主研发设计的芯片及相关产品奖励标准:

1.对于企业销售自主研发设计的芯片,且单款芯片年度销售金额累计超过500万元的,按照年度销售金额10%给予一次性奖励,单款芯片年度奖励最高不超过500万元。单个企业年度奖励总额最高不超过1000万元。

2.企业销售自主研发生产的集成电路关键核心设备或材料,且单款设备或材料年度销售金额累计超过300万元的,按照年度销售金额30%给予一次性奖励,单款设备或材料年度奖励最高不超过500万元。单个企业年度奖励总额最高不超过1000万元。

3.企业销售自主研发EDA软件,按照单款EDA软件年度销售金额50%给予一次性奖励,单款EDA软件年度奖励最高不超过500万元。单个企业年度奖励总额最高不超过1000万元。

Ⅴ、武汉市企业贷款贴息(武政规〔202018号文第九条)申报条件、申报资料和资助标准:

()符合本办法第四条规定且符合下列条件的企业可申请企业贷款贴息:

1.企业年度为扩大研发、生产而新增的银行商业贷款,不包括企业获得的政策性银行贷款。

2.企业上一年度的集成电路主营业务收入占企业收入总额的比例不低于60%

()申报企业贷款贴息的企业应提供下列申报资料:

1.企业营业执照复印件。

2.企业上一年度财务审计报告。

3.企业经营和技术研发基本情况及年度新增贷款资金为扩大研发、生产的情况说明。

4.企业支付银行贷款利息凭证,借款合同、借款凭证或贷款进账单、银行借款利息结算凭证复印件。

5.申报企业对申报材料的真实性及不重复申请承诺书。

6.企业曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。

7.市经信局要求的其他材料。

()企业贷款贴息标准:

1.按年度新增贷款的实际贷款利率的50%给予贷款贴息,单个企业每年贴息金额最高不超过1000万元。

2.“按实际贷款利率的50%给予贷款贴息仅针对企业年度实际支付银行贷款利息金额的50%给予贷款贴息。

3.新增贷款是指年度内新核准并已发放的贷款。

4.对因逾期、违约等产生的费用一律不予补贴。

本办法所称申报资料是指企业申报专项资金需提供的基本材料,申报时市经信局可在申报受理通知中要求提供其他必要的申报材料。当某项申报材料中合同、发票、转账凭证中的金额不一致时,以转账凭证中的实际金额为准。本办法所称年度起止时间以当年申报通知的起止结算时间为准。本办法对关联公司虚假的、不公允的关联交易不予支持。